脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用最为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。

脉冲激光沉积系统 （PLD）

TSST脉冲激光沉积系统配置：

• 生长室，进样室可选
• 两种靶材台可选
• 三种加热器可选，最高加热温度1200℃
• 高压RHEED，工作气压可达100Pa
• 可预留法兰，用于LEED，K-Cell等
• 可选项：臭氧发生器，离子源，掩膜系统等

TSST脉冲激光沉积系统特点及优势：

• 产品基于荷兰Twente大学Prof. Blank和Dr. Rijnders研究组的原始设计，在提供产品的同时，更能提供专业的技术支持；
• 始终考虑到客户的需求，为其定制产品，具有很大的灵活性；
• 靶材台同时可以安装5个靶，并且5个靶可以同时更换，节省换靶时间；
• TSST公司是高压RHEED的发明人，其在RHEED结果的分析上造诣很深，可以为用户提供结果分析建议；
• 用户可以通过TSST公司与荷兰Twente大学进行学术交流，包括访问甚至交换学生等。

TSST公司介绍

荷兰TSST（Twente Solid State Technology BV）公司是荷兰Twente大学（University of Twente）的附属公司，是由世界上较早开展脉冲激光沉积系统研究的Prof. Blank和Dr. Rijnders研究组所成立的研究型公司。自1998年成立以来，公司一直致力于PLD/LMBE系统的研发与生产，客户通过使用我们的产品，取得了丰硕的科研成果。

特别值得一提的是，该公司正是脉冲激光沉积系统上不可或缺的高压差分RHEED专利的发明者。

北京汇德信科技有限公司作为TSST在中国的独家代理，能为国内客户提供满足各自需求的PLD/LMBE产品和相应的技术支持。

另外，我们还单独提供简易加热器与靶材台（包括法兰和配套的电子设备），尺寸大小可根据用户的要求进行定制。